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超净高纯试剂系列
品名 英文名 分子式 级别
SL UL VL EL
过氧化氢 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
盐酸 Hydrochloric Acid HCL
硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
光刻胶配套试剂系列
品名 英文名 型号
负胶显影液 Negative Photoresist Developer FX-C型
负胶显影液 Negative Photoresist Developer FX-D型 FX-2D型
负胶漂洗液 Negative Photoresist Rinse FP-01型
负胶显影漂洗液 Negative Photoresist Developer and Rinse MD-B型、MD-C型
 
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